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Intel全新堆叠式CFET晶体管技术曝光 工艺向02nm进军
作者:admin 发布于:2024-08-31 14:25 浏览次数:
5月24日消息,近日在比利时安特卫普举行的 ITF World 2023大会上,英特尔技术开发总经理 Ann Kelleher 介绍了几个关键领域最新技术发展,其中就包括了英特尔将采用堆叠式 CFET 晶体管架构凯时K66国际,这也是英特尔首次公开介绍新的晶体管设计,但并未提及具体的量产时间表。
新技术提升晶体管开关速度,占用空间更少,可以达成与FinFET结构相同驱动电流水准。Ann Kelleher 表示,RibbonFET 将在 2024 年量产。
英特尔还展示下一代 GAA 堆叠式 CFET 晶体管架构凯时K66国际,将允许堆叠8个纳米片,是 RibbonFET 的4个纳米片的两倍,将进一步提升晶体管密度。
CFET 电晶体将 n 和 p 两种 MOS 元件堆叠在一起,以达成更高的密度凯时K66国际。英特尔正在研究两种 CFET晶体管,也就是单片式和顺序式,但未确定最后采用哪种 CFET晶体管,或还有其他类设计出现。
英特尔表示,凭借CFET晶体管技术,2032年将有望进化到5埃米(0.5nm),2036年将有望实现2埃米(0.2nm),CFET晶体管架构类型还会发生变化,也是不可避免的。
不过凯时K66国际,英特尔只是概述电晶体技术大概发展蓝图,并没有分享太多细节,未来应该还会陆续公开更多信息公布。凯时K66国际晶体管无方向性信标视分放大器电子输运性质